Image:Leiterbahn ausfallort elektromigration.jpg
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Leiterbahn_ausfallort_elektromigration.jpg (512 × 512 pixels, file size: 65 KB, MIME type: image/jpeg)
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| Description |
Aufnahme eines Ausfallortes verursacht durch Elektromigration in einer Kupferleiterbahn unter dem Rasterelektronenmikroskop (REM). Die Passivierung wurde vorher durch w:de:Reactive Ion Etching (RIE) und w:de:Fluorwasserstoffsäure (HF) entfernt. Die Ätzprozesse sind dabei nicht erprobt gewesen und beruhen auf Versuchen das best mögliche Resultat zu erlangen. |
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| Source |
Mit dem Rasterelektronenmikroskop aufgenommen |
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| current | 17:24, 6 March 2007 | 512×512 (65 KB) | CommonismNow | ({{Information| |Description=Aufnahme eines Ausfallortes verursacht durch Elektromigration in einer Kupferleiterbahn unter dem Rasterelektronenmikroskop (REM). Die Passivierung wurde vorher durch w:de:Reactive Ion Etching (RIE) und [[w:de:Fluorwasserst) |
